Код профессионального стандарта:
40.007
Дата введения:
2014-05-23
Область профессиональной деятельности:
Сквозные виды профессиональной деятельности в промышленности
Вид профессиональной деятельности:
Производство интегральных схем, микросборок и микромодулей
УТВЕРЖДЕН
приказом Министерства труда и социальной защиты Российской Федерации
от «03» февраля 2014 г. №69н
ПРОФЕССИОНАЛЬНЫЙ
СТАНДАРТ
Инженер-технолог в области производства наногетероструктурных
СВЧ-монолитных интегральных схем
26 |
Регистрационный номер |
I. Общие сведения
Производство интегральных схем, микросборок и микромодулей | 40.007 | |||||
(наименование вида профессиональной деятельности) | Код | |||||
Основная цель вида профессиональной деятельности: | ||||||
Производство наногетероструктурных сверхвысокочастотных (СВЧ) монолитных интегральных схем (МИС СВЧ) с использованием нанотехнологий | ||||||
Группа занятий: | ||||||
2111 | Физики | 2113 | Химики | |||
(код ОКЗ) | (наименование) | (код ОКЗ) | (наименование) | |||
Отнесение к видам экономической деятельности: | ||||||
32.10.6 | Производство интегральных схем, микросборок и микромодулей | |||||
(код ОКВЭД) | (наименование вида экономической деятельности) |
II. Описание трудовых функций, входящих в профессиональный стандарт (функциональная карта вида профессиональной деятельности) |
Обобщенные трудовые функции | Трудовые функции | ||||
код | наименование | уровень квалификации | наименование | код | уровень (подуровень) квалификации |
А | Моделирование, разработка и внедрение новых технологических процессов производства наногетероструктурных МИС СВЧ | 7 | Анализ мирового опыта применения материалов наногетероструктурной электроники СВЧ | A/01.7 | 7 |
Разработка планов создания и модернизации технологических линий для освоения новых направлений в наногетероструктурной электронике СВЧ | A/02.7 | ||||
Подготовка технического задания (ТЗ) на проведение опытно-технологических работ (ОТР) по разработке новых технологических процессов производства МИС СВЧ | A/03.7 | ||||
Моделирование наногетероструктур, активных и пассивных элементов, технологических операций изготовления гетероструктурных МИС СВЧ с использованием технологических систем моделирования и проектирования элементов и технологий полупроводниковых ИС, в том числе МИС СВЧ, изготавливаемых на основе гетероструктур(TCAD) | A/04.7 | ||||
Подготовка технического задания (ТЗ) на разработку маршрутных и операционных карт производства МИС СВЧ на основе разработанной конструкторской документации (КД), документации на отработанные технологические процессы (ТП) и данных моделирования | A/05.7 | ||||
В | Подготовка комплекта технологической документации (ТД) производства наногетероструктурных МИС СВЧ, организация и сопровождение технологического процесса производства | 7 | Разработка комплекта технологической документации для производства МИС СВЧ на основе ТЗ и нормативной документации | B/01.7 | 7 |
Планирование и организация сопровождения технологического процесса производства МИС СВЧ | B/02.7 | ||||
Разработка методики входного, межоперационного и выходного контроля при производстве наногетероструктурных МИС СВЧ | B/03.7 | ||||
Реализация технологии на основе электронной литографии | B/04.7 | ||||
Реализация технологии на основе проекционной литографии | B/5.7 | ||||
Организация работы по повышению выхода годных МИС, разработка ТЗ для корректировки технологических операций | B/6.7 | ||||
С | Осуществление проектирования и изготовления методами эпитаксии наногетероструктур для ОТР и производства МИС СВЧ | 7 | Проведение расчета параметров технологического процесса эпитаксиального выращивания наногетероструктур на подложках, применяемых в СВЧ-электронике | C/1.7 | 7 |
Подготовка и квалификация машин к росту продукции | C/2.7 | ||||
Определение методик тестирования качества эпитаксиальных слоев | C/3.7 | ||||
Проведение статистического анализа поведения установки во время исследования, статистическое сопровождение по группам продукции и контроль качества по спецификации заказчика | C/4.7 | ||||
D | Проведение ОТР по разработке базовых технологических процессов МИС СВЧ | 7 | Анализ КД и ТЗ на проведение ОТР, оценка достижимости заданных параметров МИС СВЧ по выбираемой или заданной технологии | D/1.7 | 7 |
Определение базовых технологических процессов, применяемых материалов и оборудования для изготовления опытных образцов МИС СВЧ | D/2.7 | ||||
Согласование принимаемых решений с представителями заказчика, конструкторскими подразделениями, метрологической службой и другими смежными структурами организации | D/3.7 | ||||
Управление командой по реализации ОТР | D/4.7 |
III. Характеристика обобщенных трудовых функций | |||||||||||||||||||||
3.1. Обобщенная трудовая функция | |||||||||||||||||||||
Наименование | Моделирование, разработка и внедрение новых технологических процессов производства наногетероструктурных МИС СВЧ | Код | А | Уровень квалификации | 7 | ||||||||||||||||
Происхождение обобщенной трудовой функции | Оригинал | X | Заимствовано из оригинала | ||||||||||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | ||||||||||||||||||||
Возможные наименования должностей | Ведущий инженер-технологИнженер-технолог | ||||||||||||||||||||
Требования к образованию и обучению | Высшее образование - специалитет, магистратура | ||||||||||||||||||||
Требования к опыту практической работы | Не менее одного года работы в должности инженера-технолога | ||||||||||||||||||||
Особые условия допуска к работе | Прохождение обязательных предварительных (при поступлении на работу) и периодических медицинских осмотров (обследований) в установленном законодательством порядке;инструктаж по безопасному ведению работ | ||||||||||||||||||||
Дополнительные характеристики | |||||||||||||||||||||
Наименование документа | Код | Наименование базовой группы, должности (профессии) или специальности | |||||||||||||||||||
ОКЗ | 2111 | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Физики | |||||||||||||||||||
2113 | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Химики | ||||||||||||||||||||
ЕКС | - | Инженер-технолог | |||||||||||||||||||
ОКСО | 550700201.04.04 | Электроника и микроэлектроникаФизическая электроника | |||||||||||||||||||
3.1.1. Трудовая функция | |||||||||||||||||||||
Наименование | Анализ мирового опыта применения материалов наногетероструктурной электроники СВЧ | Код | A/01.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | ||||||||||||||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | ||||||||||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | ||||||||||||||||||||
Трудовые действия | Анализ применения материалов в интегральной электронике СВЧ, основанной на гетероэпитаксиальных структурах | ||||||||||||||||||||
Анализ физических и технологических принципов разработки и изготовления активных элементов с применением новых и традиционных материалов СВЧ (гетеротранзисторов с высокой подвижностью электронов, низкобарьерных диодов и др.) | |||||||||||||||||||||
Прогноз применения материалов в наногетероструктурной электронике для определения политики организации в области производства наногетероструктурных МИС СВЧ | |||||||||||||||||||||
Необходимые умения | Делать обзоры по отечественным и иностранным источникам информации | ||||||||||||||||||||
Необходимые знания | Технический английский язык | ||||||||||||||||||||
Основы материаловедения полупроводников и гетероструктур | |||||||||||||||||||||
Технология наногетероструктурных МИС СВЧ | |||||||||||||||||||||
Технологическое оборудование для производства МИС СВЧ | |||||||||||||||||||||
Технико-экономические и прогнозные исследования в отрасли | |||||||||||||||||||||
Другие характеристики | Ответственность за прогнозные оценки развития производства | ||||||||||||||||||||
Деятельность, направленная на решение нетиповых задач технологического характера |
3.1.2. Трудовая функция | |||||||||||||||||||
Наименование | Разработка планов создания и модернизации технологических линий для освоения новых направлений в наногетероструктурной электронике СВЧ | Код | A/02.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | ||||||||||||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | ||||||||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | ||||||||||||||||||
Трудовые действия | Анализ тенденций развития технологии, технологического оборудования в области наногетероструктурной электроники СВЧ | ||||||||||||||||||
Разработка технически и экономически обоснованных планов развития новых производств или модернизации существующих для освоения новых направлений в производстве МИС СВЧ | |||||||||||||||||||
Представление планов развития для обсуждения и принятия на научно-техническом совете (НТС) | |||||||||||||||||||
Необходимые умения | Делать обзоры по отечественным и иностранным источникам информации | ||||||||||||||||||
Готовить планы развития | |||||||||||||||||||
Готовить презентации | |||||||||||||||||||
Необходимые знания | Технический английский язык | ||||||||||||||||||
Технология наногетероструктурных МИС СВЧ, исследования в новых направлениях | |||||||||||||||||||
Технологическое оборудование для производства МИС СВЧ | |||||||||||||||||||
Технико-экономические и прогнозные исследования в отрасли | |||||||||||||||||||
Другие характеристики | Ответственность за прогнозные оценки развития производства | ||||||||||||||||||
Деятельность, направленная на решение новых задач технологического характера | |||||||||||||||||||
3.1.3. Трудовая функция | |||||||||||||||||||
Наименование | Подготовка технического задания (ТЗ) на проведение опытно-технологических работ (ОТР) по разработке новых технологических процессов производства МИС СВЧ | Код | A/03.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | ||||||||||||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | ||||||||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | ||||||||||||||||||
Трудовые действия | Анализ прогнозных оценок тенденций развития технологии, технологического оборудования в области наногетероструктурной электроники СВЧ | ||||||||||||||||||
Постановка целей и задач проведения опытно-технологических работ по разработке новых ТП производства МИС СВЧ | |||||||||||||||||||
Декомпозиция задач ОТР, выделение базовых ТП и установление временных рамок и последовательности их разработки | |||||||||||||||||||
Представление планов развития для обсуждения и принятия на НТС | |||||||||||||||||||
Формулирование ТЗ для определенной последовательности разработки базовых технологических процессов | |||||||||||||||||||
Оформление ТЗ на ОТР | |||||||||||||||||||
Представление и защита разработанных ТЗ на НТС | |||||||||||||||||||
Необходимые умения | Формулировать цели, задачи, разрабатывать и согласовывать ТЗ на проведение связанных системно ОТР | ||||||||||||||||||
Необходимые знания | Физика и технология наногетероструктурных МИС СВЧ, исследования в новых направлениях | ||||||||||||||||||
Системный анализ | |||||||||||||||||||
Методы декомпозиции сложных задач | |||||||||||||||||||
Технологическое оборудование для производства МИС СВЧ | |||||||||||||||||||
Технико-экономическое обоснование развития отрасли | |||||||||||||||||||
Стандарты на проведение опытно-технологических работ | |||||||||||||||||||
Другие характеристики | Ответственность за развитие производства | ||||||||||||||||||
Деятельность, направленная на решение новых задач технологического характера |
3.1.4. Трудовая функция | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Наименование | Моделирование наногетероструктур, активных и пассивных элементов, технологических операций изготовления гетероструктурных МИС СВЧ с использованием технологических систем моделирования и проектирования элементов и технологий полупроводниковых ИС, в том числе МИС СВЧ, изготавливаемых на основе гетероструктур(TCAD) | Код | A/04.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | |||||||||||||||||||||||||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | |||||||||||||||||||||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | |||||||||||||||||||||||||||||||
Трудовые действия | Анализ требований КД на МИС СВЧ | |||||||||||||||||||||||||||||||
Выбор на основе опыта и в соответствии с ТЗ и КД материалов и типа наногетероструктуры | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Моделирование наногетероструктур, определение их параметров, необходимых для расчета активных элементов (СВЧ-транзисторов, диодов) с использованием TCAD и других программных продуктов | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Моделирование технологического процесса изготовления активных элементов, определение параметров ТП на основе данных моделирования | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Моделирование технологических операций изготовления пассивных элементов – линий передачи, конденсаторов, резисторов, мостов, и др. | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Отчет о результатах моделирования, согласование его с руководителем и передача технологу для использования при разработке ТД | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Необходимые умения | Оценивать технические и экономические риски при выборе технологических процессов изготовления МИС СВЧ | |||||||||||||||||||||||||||||||
Оценивать временные затраты на стандартные и нестандартные подходы при производстве МИС СВЧ | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Необходимые знания | Основы физики гетероэпитаксиальных структур и приборов | |||||||||||||||||||||||||||||||
Параметры полупроводниковых материалов | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Современные системы моделирования и проектирования СВЧ устройств и МИС СВЧ | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Основы технологии МИС СВЧ | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Методы сквозного проектирования МИС СВЧ | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Единая система технологической документации (ЕСТД), нормативная документация, регламенты, принятые в организации | ||||||||||||||||||||||||||||||||
ГОСТ по постановке продукции на производство | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Другие характеристики | Самостоятельная профессиональная деятельность, предполагающая ответственность за выбор типа гетероструктур и активных элементов, как результат выполнения собственных работ | |||||||||||||||||||||||||||||||
Деятельность, направленная на подготовку заданий на конструирование МИС СВЧ | ||||||||||||||||||||||||||||||||
3.1.5. Трудовая функция | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Наименование | Подготовка технического задания (ТЗ) на разработку маршрутных и операционных карт производства МИС СВЧ на основе разработанной конструкторской документации (КД), документации на отработанные технологические процессы (ТП) и данных моделирования | Код | A/05.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | |||||||||||||||||||||||||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | |||||||||||||||||||||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | |||||||||||||||||||||||||||||||
Трудовые действия | Анализ требований КД на МИС СВЧ, а также данных моделирования наногетероструктур, активных и пассивных элементов | |||||||||||||||||||||||||||||||
Оценка на основе опыта и экспериментальных данных реализуемости технологии изготовления на МИС СВЧ и возможных рисков | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Выбор на основе нормативных документов ТП, в наиболее полном виде обеспечивающих требования к параметрам МИС СВЧ | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Составление ТЗ на разработку ТД с учетом требований КД | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Согласование ТЗ в соответствии с регламентом, принятым в организации | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Необходимые умения | Оценивать технические и экономические риски при выборе технологических процессов изготовления МИС СВЧ | |||||||||||||||||||||||||||||||
Оценивать временные затраты на стандартные и нестандартные подходы при производстве МИС СВЧ | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Составлять согласно стандартам технические задания на разработку ТД МИС СВЧ | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Оформлять ТД для сопровождения производства МИС СВЧ | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Взаимодействовать с коллективами цехов, участков | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Необходимые знания | Основы физики гетероэпитаксиальных структур и приборов | |||||||||||||||||||||||||||||||
Параметры полупроводниковых материалов | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Современные системы моделирования и проектирования СВЧ-устройств и МИС СВЧ | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Основы технологии МИС СВЧ | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Методы сквозного проектирования МИС СВЧ | ||||||||||||||||||||||||||||||||
ЕСТД, нормативная документация, регламенты, принятые в организации | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Стандарты по постановке продукции на производство | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Другие характеристики | Самостоятельная профессиональная деятельность, предполагающая ответственность за выбор типа гетероструктур и активных элементов, как результат выполнения собственных работ | |||||||||||||||||||||||||||||||
Деятельность, направленная на подготовку заданий на разработку технологических процессов МИС СВЧ | ||||||||||||||||||||||||||||||||
3.2. Обобщенная трудовая функция | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Наименование | Подготовка комплекта технологической документации (ТД) производства наногетероструктурных МИС СВЧ, организация и сопровождение технологического процесса производства | Код | B | Уровень квалификации | 7 | |||||||||||||||||||||||||||
Происхождение обобщенной трудовой функции | Оригинал | X | Заимствовано из оригинала | |||||||||||||||||||||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | |||||||||||||||||||||||||||||||
Возможные наименования должностей | Ведущий инженер-технологИнженер-технолог | |||||||||||||||||||||||||||||||
Требования к образованию и обучению | Высшее образование - специалитет, магистратура | |||||||||||||||||||||||||||||||
Требования к опыту практической работы | Не менее одного года работы в должности инженера-технолога | |||||||||||||||||||||||||||||||
Особые условия допуска к работе | Прохождение обязательных предварительных (при поступлении на работу) и периодических медицинских осмотров (обследований) в установленном законодательством порядке;инструктаж по безопасному ведению работ | |||||||||||||||||||||||||||||||
Дополнительные характеристики | ||||||||||||||||||||||||||||||||
Наименование документа | Код | Наименование базовой группы, должности (профессии) или специальности | ||||||||||||||||||||||||||||||
ОКЗ | 2111 | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Физики | ||||||||||||||||||||||||||||||
2113 | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Химики | |||||||||||||||||||||||||||||||
ЕКС | - | Инженер-технолог | ||||||||||||||||||||||||||||||
ОКСО | 550700201.04.04 | Электроника и микроэлектроникаФизическая электроника |
3.2.1. Трудовая функция | |||||||||||||
Наименование | Разработка комплекта технологической документации для производства МИС СВЧ на основе ТЗ и нормативной документации | Код | B/01.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | ||||||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | ||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | ||||||||||||
Трудовые действия | Анализ КД и ТЗ на разработку МИС СВЧ в части требований к технологии производства | ||||||||||||
Обоснование выбора маршрутной технологии | |||||||||||||
Разработка маршрутных карт ТП изготовления МИС СВЧ | |||||||||||||
Расчет технологических режимов операций | |||||||||||||
Разработка операционных карт ТП | |||||||||||||
Оформление технологической документации на ТП, согласование ее в соответствии с установленными регламентами | |||||||||||||
Необходимые умения | Работать с нормативной документацией | ||||||||||||
Работать в системе автоматизации проектирования (САПР) подготовки ТД для производства МИС СВЧ | |||||||||||||
Необходимые знания | Технология производства МИС СВЧ | ||||||||||||
Стандарты для подготовки технологической документации | |||||||||||||
САПР подготовки ТД | |||||||||||||
Другие характеристики | Ответственность за качество технологической документации на производство МИС СВЧ | ||||||||||||
3.2.2. Трудовая функция | |||||||||||||
Наименование | Планирование и организация сопровождения технологического процесса производства МИС СВЧ | Код | B/02.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | ||||||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | ||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | ||||||||||||
Трудовые действия | Тестовый запуск, сопровождение и контроль выполнения технологических операций в ходе изготовления экспериментальной партии МИС СВЧ | ||||||||||||
Анализ данных измерения параметров тестовых структур МИС СВЧ, внесение предложений по коррекции режимов в технологическую документацию | |||||||||||||
Сопровождение установившегося технологического процесса производства МИС СВЧ: формирование баз данных измерения и контроля, составление протоколов и актов контроля параметров МИС | |||||||||||||
Анализ данных измерений и контроля, предложения об изменении параметров ТП | |||||||||||||
Необходимые умения | Проводить анализ технологической документации | ||||||||||||
Работать на части технологического оборудования | |||||||||||||
Необходимые знания | Стандарты на ТД: нормативная документация отрасли, организации на технологические процессы | ||||||||||||
Основы технологии МИС СВЧ | |||||||||||||
Система менеджмента качества (СМК) | |||||||||||||
Другие характеристики | Профессиональная деятельность, направленная на согласование работ группы инженеров-конструкторов и инженеров-технологов |
3.2.3. Трудовая функция | ||||||||||
Наименование | Разработка методики входного, межоперационного и выходного контроля при производстве наногетероструктурных МИС СВЧ | Код | B/03.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | |||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | |||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | |||||||||
Трудовые действия | Анализ ТЗ в части требований к параметрам исходных материалов и выполнения отдельных операций при изготовлении МИС СВЧ | |||||||||
Разработка методик, выбор оборудования входного контроля материалов, используемых в производстве МИС СВЧ: подложек, металлов, диэлектриков и др. | ||||||||||
Разработка методик, выбор оборудования межоперационного контроля на тестовых структурах и элементах МИС СВЧ | ||||||||||
Разработка методик, выбор оборудования выходного контроля на тестовых структурах и МИС СВЧ | ||||||||||
Руководство проведением всех видов контроля | ||||||||||
Формирование базы данных всех видов контроля | ||||||||||
Статистическая обработка данных контроля с оформлением протоколов и заключений | ||||||||||
Необходимые умения | Работать на оборудовании входного, межоперационного и выходного контроля при производстве наногетероструктурных МИС СВЧ | |||||||||
Необходимые знания | Методы контроля параметров МИС СВЧ и технологических процессов | |||||||||
Другие характеристики | Ответственность за контроль качества МИС СВЧ |
3.2.4. Трудовая функция | ||||||||||
Наименование | Реализация технологии на основе электронной литографии | Код | B/04.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | |||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | |||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | |||||||||
Трудовые действия | Анализ КД и ТЗ в части требований к реализации ТП на основе электронной литографии | |||||||||
Техническая проверка исходных файлов топологии МИС СВЧ для проведения электронной литографии | ||||||||||
Руководство подготовкой подложек для проведения операций экспонирования фоторезистов на установке электронной литографии | ||||||||||
Подготовка установки электронной литографии к проведению операций прорисовки топологии | ||||||||||
Руководство реализацией операций резист-процессинга после экспонирования подложек | ||||||||||
Измерение параметров тестовых структур и элементов МИС СВЧ на подложке, оформление протокола и внесение данных в базу данных участка электронной литографии | ||||||||||
Передача подложки на следующий участок в соответствии с маршрутной картой | ||||||||||
Регламентные работы по тестированию установки электронной литографии | ||||||||||
Необходимые умения | Работать с нормативной документацией | |||||||||
Работать в САПР подготовки ТД для производства МИС СВЧ | ||||||||||
Необходимые знания | Методы электронной литографии | |||||||||
Технология производства МИС СВЧ на основе электронной литографии | ||||||||||
Стандарты для подготовки технологической документации | ||||||||||
САПР подготовки файлов топологии для электронной литографии | ||||||||||
Другие характеристики | Ответственность за качество ТП, основанного на электронной литографии |
3.2.5. Трудовая функция | ||||||||||
Наименование | Реализация технологии на основе проекционной литографии | Код | B/05.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | |||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | |||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | |||||||||
Трудовые действия | Анализ КД и ТЗ в части требований к реализации ТП на основе проекционной литографии | |||||||||
Техническая проверка исходных файлов топологии МИС СВЧ для изготовления фотошаблонов | ||||||||||
Руководство изготовлением комплекта фотошаблонов в соответствии с ТЗ | ||||||||||
Руководство подготовкой подложек для проведения последовательности операций ТП, основанного на проекционной литографии (фотолитографии) | ||||||||||
Подготовка установки проекционной литографии к проведению операций | ||||||||||
Руководство реализацией последовательности операций изготовления МИС СВЧ после экспонирования подложек | ||||||||||
Измерение параметров тестовых структур и элементов МИС СВЧ на подложке, оформление протокола и внесение данных в базу данных участка проекционной литографии | ||||||||||
Передача подложки на следующий участок в соответствии с маршрутной картой | ||||||||||
Регламентные работы по тестированию установок проекционной литографии | ||||||||||
Необходимые умения | Работать с нормативной документацией | |||||||||
Работать в САПР подготовки ТД для производства МИС СВЧ | ||||||||||
Необходимые знания | Технология производства МИС СВЧ на основе проекционной литографии | |||||||||
Стандарты для подготовки технологической документации | ||||||||||
САПР подготовки файлов топологии для проекционной литографии | ||||||||||
Другие характеристики | Ответственность за качество ТП проекционной литографии |
3.2.6. Трудовая функция | ||||||||||
Наименование | Организация работы по повышению выхода годных МИС, разработка ТЗ для корректировки технологических операций | Код | B/06.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | |||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | |||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | |||||||||
Трудовые действия | Разработка методик статистической обработки данных по уровню отклонений параметров и брака на пластинах наногетероструктурных МИС СВЧ | |||||||||
Анализ причин отклонений, отказов и связывание их с исходными параметрами материалов гетероструктур, технологических операций, топологии | ||||||||||
Составление программы дополнительных исследований и измерений | ||||||||||
Подготовка рекомендации по устранению причин отклонений параметров и брака МИС СВЧ | ||||||||||
Разработка ТЗ для корректировки технологических операций и других мероприятий на основе анализа причин отклонений параметров и отказов | ||||||||||
Необходимые умения | Разрабатывать и владеть методиками статистической обработки данных | |||||||||
Владеть методиками межоперационного контроля | ||||||||||
Анализировать результаты экспериментов | ||||||||||
Разрабатывать ТЗ | ||||||||||
Владеть методологией СМК | ||||||||||
Необходимые знания | Методы планирования эксперимента | |||||||||
Методы и методики статистического анализа | ||||||||||
Теория допусков и теория чувствительности | ||||||||||
Другие характеристики | Ответственность за процент выхода годных МИС | |||||||||
Деятельность, направленная на решение задач повышения эффективности организации |
3.3. Обобщенная трудовая функция | |||||||||||
Наименование | Осуществление проектирования и изготовления методами эпитаксии наногетероструктур для ОТР и производства МИС СВЧ | Код | C | Уровень квалификации | 7 | ||||||
Происхождение обобщенной трудовой функции | Оригинал | X | Заимствовано из оригинала | ||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | ||||||||||
Возможные наименования должностей | Ведущий инженер-технологИнженер-технолог | ||||||||||
Требования к образованию и обучению | Высшее образование - специалитет, магистратура | ||||||||||
Требования к опыту практической работы | Не менее одного года работы в должности инженера-технолога | ||||||||||
Особые условия допуска к работе | Прохождение обязательных предварительных (при поступлении на работу) и периодических медицинских осмотров (обследований) в установленном законодательством порядке;инструктаж по безопасному ведению работ | ||||||||||
Дополнительные характеристики | |||||||||||
Наименование документа | Код | Наименование базовой группы, должности (профессии) или специальности | |||||||||
ОКЗ | 2111 | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Физики | |||||||||
2113 | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Химики | ||||||||||
ЕКС | - | Инженер-технолог | |||||||||
ОКСО | 550700201.04.04 | Электроника и микроэлектроникаФизическая электроника, технические науки |
3.3.1. Трудовая функция | |||||||||||||
Наименование | Проведение расчета параметров технологического процесса эпитаксиального выращивания наногетероструктур на подложках, применяемых в СВЧ-электронике | Код | C/01.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | ||||||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | ||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | ||||||||||||
Трудовые действия | Анализ ТЗ на разработку МИС СВЧ в части требований к материалам и типу наногетероструктуры | ||||||||||||
Обоснование выбора машины для проведения эпитаксии | |||||||||||||
Расчет технологических режимов выращивания эпитаксиальных слоев | |||||||||||||
Моделирование роста гетероструктур с применением TCAD | |||||||||||||
Разработка технологической документации на изготовление гетероструктур | |||||||||||||
Необходимые умения | Работать на машинах молекулярно-лучевой эпитаксии | ||||||||||||
Необходимые знания | Технический английский язык | ||||||||||||
Основы материаловедения полупроводников и гетероструктур | |||||||||||||
Методы эпитаксии для производства гетероструктур, применяемых в наноэлектронике СВЧ | |||||||||||||
Работа с установками сверхвысокого вакуума | |||||||||||||
Другие характеристики | Ответственность за качество исходных материалов для МИС СВЧ | ||||||||||||
3.3.2. Трудовая функция | |||||||||||||
Наименование | Подготовка и квалификация машин к росту продукции | Код | C/02.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | ||||||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | ||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | ||||||||||||
Трудовые действия | Выполнение регламента подготовки машины к проведению ТП выращивания наногетероструктуры | ||||||||||||
Подготовка материалов для проведения эпитаксии | |||||||||||||
Проведение роста наногетероструктур в соответствии с ТП | |||||||||||||
Необходимые умения | Работать на машинах молекулярно-лучевой эпитаксии | ||||||||||||
Необходимые знания | Технический английский язык | ||||||||||||
Основы материаловедения полупроводников и гетероструктур | |||||||||||||
Технология молекулярно-лучевой эпитаксии | |||||||||||||
Работа с установками сверхвысокого вакуума | |||||||||||||
Другие характеристики | Ответственность за качество исходных материалов для МИС СВЧ |
3.3.3. Трудовая функция | ||||||||||
Наименование | Определение методик тестирования качества эпитаксиальных слоев | Код | C/03.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | |||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | |||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | |||||||||
Трудовые действия | Выбор методов и технических средств для тестирования эпитаксиальных слоев наногетероструктур | |||||||||
Измерение основных параметров в процессе эпитаксии | ||||||||||
Измерение параметров выращенных структур при завершении процесса эпитаксии | ||||||||||
Формирование базы данных результатов тестирования и измерения | ||||||||||
Необходимые умения | Работать с приборами и установками измерения параметров наногетероструктур | |||||||||
Необходимые знания | Методы измерения и тестирования параметров наногетероструктур | |||||||||
Основы материаловедения полупроводников и гетероструктур | ||||||||||
Другие характеристики | Ответственность за качество исходных материалов для МИС СВЧ |
3.3.4. Трудовая функция | |||||||||||||||||||||
Наименование | Проведение статистического анализа поведения установки во время исследования, статистическое сопровождение по группам продукции и контроль качества по спецификации заказчика | Код | C/04.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | ||||||||||||||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | ||||||||||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | ||||||||||||||||||||
Трудовые действия | Формирование базы данных параметров установки во время реализации процесса роста | ||||||||||||||||||||
Анализ путем статистической обработки точности выполнения операций и результата роста | |||||||||||||||||||||
Анализ данных статистической обработки об отклонениях в реализации роста и выработка корректирующих действий в следующей загрузке | |||||||||||||||||||||
Оформление сдаточных документов с сертификатом наногетероструктур для заказчика | |||||||||||||||||||||
Необходимые умения | Проводить статистический анализ | ||||||||||||||||||||
Оформлять протоколы и сертификаты (паспорта) продукции | |||||||||||||||||||||
Необходимые знания | Методы статистической обработки данных | ||||||||||||||||||||
Теория и практика управления технологическими процессами | |||||||||||||||||||||
Другие характеристики | Ответственность за качество исходных материалов для МИС СВЧ | ||||||||||||||||||||
3.4. Обобщенная трудовая функция | |||||||||||||||||||||
Наименование | Проведение ОТР по разработке базовых технологических процессов МИС СВЧ | Код | D | Уровень квалификации | 7 | ||||||||||||||||
Происхождение обобщенной трудовой функции | Оригинал | X | Заимствовано из оригинала | ||||||||||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | ||||||||||||||||||||
Возможные наименования должностей | Ведущий инженер-технолог | ||||||||||||||||||||
Требования к образованию и обучению | Высшее образование - специалитет, магистратура | ||||||||||||||||||||
Требования к опыту практической работы | Не менее одного года работы в должности инженера-технолога | ||||||||||||||||||||
Особые условия допуска к работе | Прохождение обязательных предварительных (при поступлении на работу) и периодических медицинских осмотров (обследований) в установленном законодательством порядке;инструктаж по безопасному ведению работ | ||||||||||||||||||||
Дополнительные характеристики | |||||||||||||||||||||
Наименование документа | Код | Наименование базовой группы, должности (профессии) или специальности | |||||||||||||||||||
ОКЗ | 2111 | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Физики | |||||||||||||||||||
2113 | Физики, химики и специалисты родственных профессий. Химики | ||||||||||||||||||||
ЕКС | - | Инженер-технолог | |||||||||||||||||||
ОКСО | 550700201.04.04 | Электроника и микроэлектроникаФизическая электроника |
3.4.1. Трудовая функция | ||||||||||||||||
Наименование | Анализ КД и ТЗ на проведение ОТР, оценка достижимости заданных параметров МИС СВЧ по выбираемой или заданной технологии | Код | D/01.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | |||||||||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | |||||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | |||||||||||||||
Трудовые действия | Анализ экспериментальных данных предыдущих разработок | |||||||||||||||
Оценка достижимости параметров путем моделирования основных электрических и эксплуатационных параметров, а также технологии изготовления активных и пассивных элементов МИС СВЧ | ||||||||||||||||
Организация проведения экспертных оценок достижимости заданных параметров по ТЗ | ||||||||||||||||
Разработка предложений о коррекции ТЗ на ОТР (в случае критичности достижения отдельных параметров) | ||||||||||||||||
Необходимые умения | Разрабатывать и владеть методами моделирования элементов и МИС в СВЧ диапазоне | |||||||||||||||
Владеть методиками экспертных оценок | ||||||||||||||||
Владеть методологией СМК | ||||||||||||||||
Необходимые знания | Методы моделирования активных и пассивных элементов МИС СВЧ | |||||||||||||||
Методики экспертных оценок | ||||||||||||||||
Другие характеристики | Ответственность за корректность оценки ТЗ на реализуемость | |||||||||||||||
3.4.2. Трудовая функция | ||||||||||||||||
Наименование | Определение базовых технологических процессов, применяемых материалов и оборудования для изготовления опытных образцов МИС СВЧ | Код | D/02.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | |||||||||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | |||||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | |||||||||||||||
Трудовые действия | Анализ технического задания на ОТР, определение базовых технологических процессов для реализации целей ОТР | |||||||||||||||
Обоснование применения материалов, используемых при производстве МИС СВЧ | ||||||||||||||||
Разработка перечня оборудования для реализации технологического процесса производства МИС | ||||||||||||||||
Разработка технико-экономического обоснования выбранных решений | ||||||||||||||||
Защита на НТС обоснованных технологических решений реализации ОТР | ||||||||||||||||
Необходимые умения | Оформлять технические решения в виде пояснительной записки, презентации, согласовывать их в соответствии с установленным регламентом и представлять на НТС | |||||||||||||||
Необходимые знания | Системный анализ | |||||||||||||||
Нормативная документация и описания базовых технологических процессов | ||||||||||||||||
Основы материаловедения применительно к электронике СВЧ | ||||||||||||||||
Методики проведения технико-экономических исследований при производстве высокотехнологичной продукции | ||||||||||||||||
Другие характеристики | Профессиональная деятельность, направленная на развитие инновационных разработок | |||||||||||||||
3.4.3. Трудовая функция | ||||||||||||||||
Наименование | Согласование принимаемых решений с представителями заказчика, конструкторскими подразделениями, метрологической службой и другими смежными структурами организации | Код | D/03.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | |||||||||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | |||||||||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | |||||||||||||||
Трудовые действия | Разработка комплекса согласованных мероприятий по улучшению параметров технологического процесса и МИС СВЧ | |||||||||||||||
Системный анализ влияния принимаемых согласованных решений на качественное и количественное улучшение основных параметров технологического процесса и МИС СВЧ | ||||||||||||||||
Необходимые умения | Принимать согласованные решения | |||||||||||||||
Владеть методологией СМК | ||||||||||||||||
Необходимые знания | Системный анализ | |||||||||||||||
Теория и практика принятия оптимальных решений | ||||||||||||||||
Процессный метод системы менеджмента качества | ||||||||||||||||
Другие характеристики | Ответственность за конечный результат, удовлетворяющий заказчика и имеющий перспективу производства электронных компонент СВЧ-техники |
3.4.4. Трудовая функция | ||||||||||
Наименование | Управление командой по реализации ОТР | Код | D/04.7 | Уровень (подуровень) квалификации | 7 | |||||
Происхождение трудовой функции | Оригинал | Х | Заимствовано из оригинала | |||||||
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта | |||||||||
Трудовые действия | Постановка частных задач исследовательским и производственным коллективам для достижения основного результата | |||||||||
Контроль и оценка достижений заданных результатов | ||||||||||
Необходимые умения | Декомпозировать ТЗ без потери системности | |||||||||
Принимать согласованные решения | ||||||||||
Владеть методологией СМК | ||||||||||
Необходимые знания | Системный анализ | |||||||||
Теория и практика принятия оптимальных решений | ||||||||||
Процессный метод системы менеджмента качества | ||||||||||
Другие характеристики | Ответственность за выполнение всех требований ТЗ на ОТР |
IV. Сведения об организациях – разработчиках профессионального стандарта | |||
4.1. Ответственная организация-разработчик | |||
Фонд инфраструктурных и образовательных программ (РОСНАНО) | |||
Генеральный директор Свинаренко Андрей Геннадьевич | |||
4.2. Наименования организаций-разработчиков | |||
|
Автономная некоммерческая организация «Национальное агентство развития квалификаций», город Москва | ||
|
ЗАО «Научно-производственная фирма «Микран», город Томск | ||
|
ОАО НИИ Полупроводниковых приборов, город Томск | ||
|
ООО «НПФ «Сенсерия», город Томск | ||
|
ООО «НПФ «Сибтроника», город Томск | ||
|
ООО «РИД», город Томск | ||
|
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники» (ТУСУР), город Томск |